11 ottobre 2017 07:56
Evonik ha sviluppato un nuovo grado a base di poliammide 12 modificata all’impatto, Vestamid CW1401, caratterizzato da buona elasticità e stabilità a temperature rigide, fino a -40°C, sviluppato in particolare per il mondo degli articoli sportivi invernali. Secondo la società tedesca, il nuovo grado possiede una buona resistenza all’impatto alle basse temperature, pari a 101 kJ/m2, ovvero due volte quella di altri materiali utilizzati in questo campo.
Grazie a queste caratteristiche, la poliammide 12 Vestamid CW1401 è stata selezionata dal marchio austriaco UPZ per una nuova linea di scarponi da sci e da snowboard, utilizzata nello specifico per stampare ad iniezione le parti più soggette ai carichi.
“Nelle gare di discesa libera e, soprattutto, in quelle di snowboard, la pressione applicata allo scarpone è di molto superiore a quella impressa da uno sciatore amatoriale - spiega Wolfgang Aigner, amministratore delegato di Auitec GmbH - Il materiale deve essere quindi in grado di resistere a carichi estremi in modo permanente”.
La gamma di materiali per applicazioni sportive, compresa la nuova poliammide 12, sarà presentata da Evonik in occasione di Fakuma, in porgramma a Friedrichshafen dal 17 al 24 ottobre 2017.
© Polimerica - Riproduzione riservata
Via F. de Sanctis, 74 - 20141 Milano (MI)
Tel: +39 02.21118692
Web: www.plasticfinder.it/ - Email: info@plasticfinder.it
BioCampus Cologne - Nattermannallee, 1 - 50829 (K)
Tel: +49 221.8888.9400 - Fax: +49 221.8888.9499
Web: bio-fed.com/it/ - Email: info@bio-fed.com
Via Gasdotto, 25 - 36078 Valdagno (VI)
Tel: +39 0445 402438
Web: www.gpdipiazzon.it - Email: info@gpdipiazzon.it
Loc. Pian D'Assino, snc - 06019 Umbertide (PG)
Tel: +39 0759417862
Web: www.lucy-plast.it - Email: info@lucy-plast.it
Rappresenta anche l'80% del tempo di produzione, ma se non ottimizzato lo rallenta. Insieme a Piovan vediamo come risolvere i problemi più comuni.
Il reparto stampaggio della bresciana AVE conta 16 presse interconnesse industria 4.0, ormai quasi tutte Arburg.